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专利布局

专利布局

  • 所属分类:国内专利
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  • 发布时间:2023-08-14 18:21:22
  • 产品概述
出于特定商业目的和利益,在对实现相应目的、利益最为有利的要点布置专利,尤其当所申请的多件专利可以达成有效呼应以取得更为优化的效果时,即形成了专利布局



专利布局与专利挖掘、专利撰写是融合关联的,不能强行割裂。




 

 布局与挖掘、撰写的关联


01

布局与挖掘


企业研发人员作为发明人要完成专利挖掘,在寻找、选择适当的技术方案形成技术提案的筛选过程中,专利布局的思想应当已经开始发挥作用了。否则会大大降低专利挖掘工作的效率,从而大大增加工作成本。

专利布局与专利挖掘两者深度相融,不能强行割裂。专利挖掘、专利布局两者有着共同的目标:确定最适合申请专利的技术提案。相应,从专利挖掘和专利布局的角度对技术方案进行评价、筛选、加工的指导思想也高度重合。

尽管发明人不可能普遍、全面、深入地掌握专利布局能力,但是,发明人完全能够对专利挖掘和布局具备基础性、概念性了解,在进行专利挖掘时,尽量力所能及地将布局因素考虑在内,为企业专利部门接力打好基础,从而达成最佳效率。




02

布局与撰写 


专利布局与专利撰写的融合关联更加清楚。专利撰写中的权利要求布局即是专利布局的向下延伸。

实际上,权利要求是专利权的基本单位,即每项权利要求是一项独立的专利。相应,倘若可以忽略专利申请成本带来的影响,可以将专利布局视为权利要求布局。由于专利单一性的要求,可以将符合单一性要求的权利要求归并在一件专利申请之中。归并完成之后形成的若干件专利,即为完成了布局的专利。










布局的维度和角度




专利布局可以从四个维度进行:成果保护、防止规避、技术演进、链条延伸

其中,成果保护这一维度主要指直接对技术发明成果加以保护,将技术成果中的技术方案纳入专利保护范围。可将成果保护这一维度细分成占据空白、重点强化两个角度。

另外三个布局维度可以不再细分,也被称为布局角度。相应,专利布局可以从五个角度进行。

实际上,这五个角度也应用于指导发明人进行专利挖掘、专利代理师进行专利撰写,体现着专利挖掘、专利撰写、专利布局相融合的特点。

专利布局的五个角度并不必然相互排斥,即,一项权利要求可能同时从多个角度具有专利布局意义。多个角度的组合有助于为技术研发、专利布局拓展思想维度。

01

重点强化 




重点强化指对技术成果中具有重要意义的关键点,可以酌情以较大密度布局多件专利加以保护,甚至可能对同一个技术点尝试从不同角度申请多件专利,利用冗余强化保护。

高密度冗余保护对代理机构的专业能力要求很高。通常,这类专利申请应尽可能同日做出首次提交。

02

占据空白 


占据空白指对技术成果未加以保护的空白点加以专利保护,是对总体布局薄弱方面的加强。

实际上,企业申请的任何一件专利均多少带有占据空白的意义。

一件专利仅保护一个技术点。而一项技术成果由诸多,甚至难以计数的技术点构成。理论上,当诸多专利就一项技术成果形成良好布局时,被专利保护的技术点应在各个维度、层次上较为均匀地分布于技术成果周遭,而不留下较大的不设防空白区域。通常,技术成果可能在某些方面聚集了更多的关键点,确有必要由数量较多的专利大密度设防,但仍不宜留下较大的空白区域。其中,各个维度、层次可以指,例如,产品、方法;方法又可能分为生产、使用、测试等等;产品或方法又可以从最大全局系统到最小局部细节。




03

防止规避 


为规避专利侵权,行为人可能尝试就专利技术方案加以绕道设计,从而使其实施的技术并未落入专利保护范围。

防止规避,指预先分析他人可能针对我方专利技术方案可能采取用的绕道设计,而针对这些绕道设计先行申请专利,使他人难以规避。

04

技术演进


所有技术将一直发展演进,我方掌握的技术、现有技术,无论是否属于专利技术,均会如此。因而,申请人、发明人需要特别关注可能的技术演进,并对其中有价值的积极做出专利布局。

针对他方的扼制型专利,通常采用技术演进布局这一方式而获得。

实际上,任何专利申请当中均包含技术进步的因素,从而或多或少带有技术演进的属性。技术演进思路下引导的专利挖掘、布局,更强调从取得商业竞争优势、扼制竞争对手的明确商业目的出发而挖掘、布局专利。专利申请不是以自然技术进步为主要初衷。因而,会出于布局专利之目的,针对某项技术成果,尤其是可能引起多方激烈竞争、有重大商业前景的技术成果,基于简单的二次研发改进、微创新、套路性改进迅速产出可以实现专利申请之目的的技术方案,完成技术演进式的专利挖掘布局。从而确保本企业在该领域能够保有一席之地。

05

链条延伸


链条延伸,指将专利布局延伸至该技术产业链或商业实现链条上下游各环节。

以链条延伸为指引时,突出地需要发明人、专利部门在互补配合之下,对技术商业实施的方式和侵权原理有良好把握,使两者实现最优匹配,即,锁定最适宜认定专利侵权并取得最高额收益的场景,方能在复杂的产业、商业链条上有效挖掘出布局专利的最有利点位,发挥出专利布局的最佳效能。

因为产业或商业链条常常具有最高的复杂度,使得按链条延伸的指导思想进行专利挖掘、布局最具有产出丰硕成果的潜质,也最具有挑战性:要求发明人不仅精于本岗位涉及的技术,对完整产业链、商业链也有所了解;要求专利部门具备开阔的视野和跨部门协调资源的能力。

无论对于有形、无形产品,将产品实现的产业活动之完整过程视为前后顺序相扣的一个个环节,即为产业链。通常,一家企业仅位于链条中的某个或某几个环节。例如,某企业处于某产品生产这一环节,顺产业链上溯上游,是所需零部组件及其他材料的生产和供应,向下游延伸,是对该产品的应用,例如,可能将之装入不同的上级产品或系统。逐级向上游、下游延伸探索,常常会发现,完整的产业链存在极多环节,并且上游、下游常常存在极多分支。

商业实现链条与产业链的概念相似。主要不同在于,商业实现链条聚焦于某一产品商业价值实现的完整商业活动过程,将这一完整过程视为前后顺序相扣的一个个环节。例如,从产品设计,经由原材料获得,组织生产,销售,提供售后服务,至产品回收或销毁等等,如果更加精细的分析,其中还可能涉及物流仓储等等。对于某些产品甚至可能对,例如,物流仓储、回收销毁环节,存在特殊技术要求,可能存在布局专利的价值和必要性。

当落地到实际着手从事专利挖掘、布局的发明人时,发明人常常仅仅位于、仅仅了解企业内部自己本职的一个小环节。产业链在企业内部的延伸和细分而形成的分支链条,习惯上不再称为产业链,可以被称为企业内部的产品链条或生产流程。例如,在企业内部,当发明人的岗位在某产品之电路系统的一级子系统,则电路系统是他的直接下游,他之下的二级电路子系统是他的直接上游。另外,该产品可能还存在并行的结构系统或其他系统,电路系统、结构系统及其他系统必然在某些环节产生交集,从而使这些系统并入一个完整的产品链。而按商业链条梳理时,发明人的上游通常可以上溯到,例如,设计研发、物资采购;下游延伸到,例如,销售、产品售后服务、产品回收。

无论产业链条还是商业链条,对专利挖掘、布局均有重大意义。因为当中某一环节的新技术,其应用、效果均可能向上游、下游、旁支传导,在链条内的其他环节,有时可能是并不相邻的环节产生作用,使针对那些环节设计、布局专利成为可能,并且可能产生极大价值。当然,不同行业、技术领域差异性极大,表现极为不同。

发明人依照链条延伸的思想进行专利挖掘、布局的探索时,视具体情形,有时可能寸步难行;有时可能延伸出本岗位而止步于企业之内,例如,从完整系统到若干子系统再到诸多部件、设备,形成有层次的专利布局,或者从完整流程到其中诸多不同工艺环节形成有层次的专利布局;有时可能深入上、下游不同类型友商的业务范围,获得诸多对友商具有牵制力的专利。



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